近日，厦门福纳新材料科技有限公司自主研发的“一种气态单质碳合成碳化硅的制备方法”获得国家知识产权局发明专利授权（专利号：ZL 2024 1 0309053.5）。此次技术创新以新型气态富勒烯为核心碳源，成功重塑碳化硅低温合成技术路径，破解了传统制备工艺的诸多短板，是公司“富勒烯+”高端智造布局的关键突破。

区别于传统碳源材料，富勒烯作为高性能纳米碳材料，拥有独特的低温升华优势，可在温和工况下转化为高纯度、高活性的气态单质碳。依托这一专属特性，新型气态富勒烯碳源能够实现均匀、纯净的参与反应，无杂质析出、反应稳定性强，为碳化硅低温合成新工艺落地筑牢核心基础，成为赋能半导体新材料智造升级的关键。  

当前行业主流碳化硅制备依赖传统碳硅混合高温工艺，不仅能耗高、生产门槛高，还普遍存在成品纯度不足、颗粒不均等质量问题，难以适配高端半导体的智造标准。针对行业痛点，福纳新材料立足自有富勒烯核心技术，创新采用气态富勒烯碳源与硅源分区反应模式，彻底打破传统高温合成技术的固有局限。

本专利技术的核心亮点，在于以新型气态富勒烯碳源替代传统固态碳源，成功重塑碳化硅低温合成技术体系。新工艺有效降低生产能耗与设备损耗，从源头规避杂质混入、反应不充分等问题，产出的碳化硅材料纯度高、颗粒规整、性能稳定，具备极高的产业化应用价值。

福纳新材料深耕富勒烯领域十余载，成功攻克富勒烯工业化量产核心难题。公司持续聚焦富勒烯技术迭代与跨界应用创新，已在生物医药、工业催化、新能源、半导体新材料等多领域完成技术布局。未来，福纳新材料将持续深耕“富勒烯+”产业生态，不断挖掘富勒烯材料的跨界应用潜力，以核心专利技术赋能产业创新升级，持续推动前沿纳米新材料技术落地赋能实体经济。